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石墨爐系統(tǒng)操作原理(二)

2018-01-27 類型:新聞資訊
石墨爐系統(tǒng)操作原理(二)

石墨爐系統(tǒng)操作原理(二)

爐體必須與石墨管之間良好接觸。為的是爐體不至于過高溫度氧化,爐體必須通惰性氣體保護(hù),為了爐體溫度不至于過高或者斷電后立即降溫,爐體內(nèi)有水冷系統(tǒng)。在原子化階段應(yīng)停止通氣,為了延長原子在吸收區(qū)停留的事件,并且避免原子蒸汽的稀釋。

石墨爐操作原理:

整個(gè)分析程序有四個(gè)部分組成:干燥、灰化、原子化、凈化。干燥的目的是除去溶劑,保留待測物,溫度升至略低于沸點(diǎn),在慢慢升至略高于沸點(diǎn),通常在100℃左右,保持10-20S?;一康氖浅ビ袡C(jī)質(zhì)和易揮發(fā)基體,而待測物不損失。一般溫度在100-1800℃,灰化時(shí)間10-30S。

高溫使待測物原子化,在原子化完全或盡可能多的原子化前提下,原子化溫度盡可能低,可以延長爐體壽命。通常為1800-3000℃,原子化時(shí)間為5-10S。

在高溫下,加熱3-5s,以除去管內(nèi)樣品殘?jiān)?,以減少和避免記憶效應(yīng)。注意

凈化時(shí)間要短,以防止損壞爐體。


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